DWL66+
DWL66+激光光刻系統(tǒng)是一個經(jīng)濟的，高分辨率模式發(fā)生器為低容量掩模制造和直寫。這個系統(tǒng)的靈活性和功能讓最終的光刻研究工具用于微電子機械系統(tǒng)，生物微機電，微光學(xué)，專用集成電路，微流體，傳感器，計算機全息技術(shù)，還有其他的微型機構(gòu)的應(yīng)用。用DWL66+的客戶在世界范圍內(nèi)包含了超過150個的大學(xué)和研究設(shè)備處。這個系統(tǒng)的很多功能一直在與這些機構(gòu)進行密切的合作開發(fā)。
重要特征選項
基板尺寸9"x 9"
最小描繪尺寸0.6um
最小描繪網(wǎng)格10nm
的灰度曝光模式
實時的自動對焦系統(tǒng)
客戶特定激光源
矢量和柵格曝光模式
可交換的寫模式
攝像系統(tǒng)計量和校準
前后面對齊
人工氣候室
多種數(shù)據(jù)輸入格式
用戶編程接口
技術(shù)參數(shù)
寫入模式 | 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 |
地址網(wǎng)格（nm） | 10 | 20 | 25 | 50 | 100 | 200 |
最小結(jié)構(gòu)大?。╱m） | 0.6 | 0.8 | 1 | 2 | 4 | 7 |
寫速度（mm^2/min） | 6 | 25 | 39 | 145 | 500 | 1000 |
邊緣粗糙度（3σ，nm） | 50 | 70 | 80 | 110 | 160 | 240 |
線寬均勻度（3σ，nm） | 60 | 80 | 100 | 180 | 250 | 500 |
線條測量精度（3σ，nm） | 100 | 120 | 150 | 250 | 400 | 800 |
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