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一、設(shè)備簡(jiǎn)介：

PTL 系列低溫等離子表面處理設(shè)備由真空腔體及高頻等離子電源、抽真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、自動(dòng)控制系統(tǒng) 等部分組成。工作基本原理是在真空狀態(tài)下，等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體,利用真空泵將工作室進(jìn)行抽真空達(dá)到 30-40pa 的真空度，再在高頻發(fā)生器作用下，將氣體進(jìn)行電離，形成等離子體（物質(zhì)第四態(tài)），其顯著的特點(diǎn)是高均勻性輝光放電，根據(jù)不同氣體發(fā)出從藍(lán)色到深紫色的彩色可見光，材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用，得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。

等離子處理優(yōu)點(diǎn)：

1. 環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過(guò)程是氣- 固相干式反應(yīng) ,不消耗水資源、無(wú)需添加化學(xué)藥劑,對(duì)環(huán)境無(wú)污染。

2. 廣適性：不分處理對(duì)象的基材類型,均可進(jìn)行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理；

3. 溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長(zhǎng)保存時(shí)間和較高表面張力。

4. 功能強(qiáng)：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000 埃），可在保持材料自身特性的同時(shí)，賦予其一種或多種新的功能；

5. 低成本：裝置簡(jiǎn)單，易操作維修，可連續(xù)運(yùn)行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會(huì)大大低于濕法清洗。

6. 全過(guò)程可控工藝：所有參數(shù)可由電腦設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄，進(jìn)行工藝質(zhì)量控制。

7. 處理物幾何形狀無(wú)限制：大或小，簡(jiǎn)單或復(fù)雜，部件或紡織品，均可處理。

二、技術(shù)參數(shù)

1、設(shè)備外形尺寸: 450(W)×380(D)×330(H)mm

2、真空倉(cāng)體尺寸: Φ165×220(L)mm （5L）

3、倉(cāng)體結(jié)構(gòu): 高純石英腔體，外置電感耦合電極，無(wú)污染，內(nèi)置石英托盤。

4、等離子發(fā)生器: 原裝 PTL 公司射頻電源，頻率 13.56MHZ，功率 0-150W 調(diào)節(jié)，全電路保護(hù)，可連續(xù)長(zhǎng) 時(shí)間工作。（風(fēng)冷）。

5、控制系統(tǒng):PLC 觸摸屏全自動(dòng)控制，采用歐姆龍、施耐德等進(jìn)口品牌電器元件,有手動(dòng)、自動(dòng)兩種控制模式，真彩臺(tái)達(dá)觸摸屏，西門子可編程控制器（PLC），美國(guó)產(chǎn)真空壓力傳感系統(tǒng)，可在線設(shè)定、修改、監(jiān)控真空壓力、處理時(shí)間、等離子功率等工藝參數(shù)，并具有故障報(bào)警、工藝存儲(chǔ)等多種功能。在自動(dòng)模式下設(shè)置各項(xiàng)工藝參數(shù)，即可一鍵啟動(dòng)，連續(xù)重復(fù)運(yùn)行。手動(dòng)模式用于實(shí)驗(yàn)工藝以及設(shè)備維護(hù)維修。

三、工藝流程：

3.1 處理工藝流程裝入工件→抽真空→沖入反應(yīng)氣體→等離子放電處理→回沖氣體→取出工件

3.2 工藝控制：

3.2.1 處理時(shí)間控制： 1 秒～120 分鐘連續(xù)可調(diào)。

3.2.2 等離子放電壓力：30～80Pa

3.2.3 功率設(shè)定范圍：0～150W 連續(xù)可調(diào)

3.2.4 流量設(shè)定范圍：氣體 1（0～300ml/min）氣體 2（0～500ml/min）

3.3 PLC 軟件功能（操控界面）