應(yīng)用范圍：
半導(dǎo)體、等離子體、環(huán)境和醫(yī)療。
產(chǎn)品簡介：
該機(jī)是廣泛用于半導(dǎo)體清洗的大功率真空紫外光源系統(tǒng)，它采用射頻激發(fā)氙氣產(chǎn)生158nm到190nm的真空紫外光，高能量紫外線可使化學(xué)殘留物分解成揮發(fā)性氣體二氧化碳、一氧化碳、水蒸氣等;190nm以下的真空紫外光使空氣電離產(chǎn)生臭氧，臭氧的氧化能力也可使化學(xué)殘留物氧化變成揮發(fā)性氣體，起到清洗的目的，對于物體表面最難清洗的油脂及有機(jī)污染物清洗效果;該機(jī)可靠性高，無需維護(hù);標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品帶有350 x 400 mm 的法蘭，光源口徑230 mm，可以根據(jù)用戶需要定制法蘭或光源口徑。
主要特色：
同普通實(shí)驗(yàn)室用的真空紫外光源的主要區(qū)別在于其高功率和大輻照面積。
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