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德國(guó)電子束曝光利用電子束在涂有電子抗蝕劑的晶片上直接描畫或投影復(fù)印圖形的光刻技術(shù)。電子抗蝕劑是一種對(duì)電子敏感的高分子聚合物。經(jīng)過(guò)電子束掃描過(guò)的電子抗蝕劑發(fā)生分子鏈重組，使曝光圖形部分的抗蝕劑發(fā)生化學(xué)性質(zhì)改變，經(jīng)過(guò)顯影和定影，獲得高分辨率的抗蝕劑曝光圖形?，F(xiàn)代的電子束光刻設(shè)備已經(jīng)能夠制作小于10納米的精細(xì)線條結(jié)構(gòu)，也可制作光學(xué)掩模版。

德國(guó)電子束曝光主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場(chǎng)大束流進(jìn)行曝光，適用于科研及小批量生產(chǎn)中使用；自動(dòng)化程度高，除了放樣取樣外，整個(gè)曝光過(guò)程只需要編輯曝光的相關(guān)參數(shù)，其他過(guò)程均可自動(dòng)完成。