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FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積

產(chǎn)品二維碼
參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 產(chǎn)品型號：
  • 品牌：
  • 產(chǎn)品類別：天平
  • 所在地：
  • 信息完整度：
  • 樣本：
  • 更新時間：2025-02-09 12:52:15
  • 瀏覽次數(shù)：15

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北京瑞科中儀科技有限公司

其他

  • 經(jīng)營模式：其他
  • 商鋪產(chǎn)品：387條
  • 所在地區(qū)：
  • 注冊時間：2015-05-12
  • 最近登錄：2022-10-24
  • 聯(lián)系人：
產(chǎn)品簡介

簡要描述：FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積：隨著LCD面板和制造所需玻璃的尺寸的增加，其制造設備也變得更大，需要越來越大的設備投資。SYSKEY針對中小尺寸的需求開發(fā)串集的PECVD 設備，提供非晶矽（a-Si），氧化矽（SiOx），氮氧化矽（SiON），氮化矽（SiNx）和多層膜沉積。

詳情介紹

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FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積

隨著LCD面板和製造所需玻璃的尺寸的增加，其製造設備也變得更大，需要越來越大的設備投資。SYSKEY針對中小尺寸的需求開發(fā)串集的PECVD 設備，提供非晶矽（a-Si），氧化矽（SiOx），氮氧化矽（SiON），氮化矽（SiNx）和多層膜沉積。

FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積

應用領域

  • 非晶矽前驅物（a-Si）。

  • 氮化矽 (SiNx)。

  • 氧化矽，矽烷基(SiOx)。

  • 氧化矽，TEOS (SiOx)。


配置和優(yōu)點選件

  • 客製化基板尺寸為550 x 650 mm2(玻璃)。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3％。

  • 每個製程腔內最多可加裝7組氣體管線。

  • 遠程電漿進行腔體清潔。

  • 穩(wěn)定的溫度控制，可將基板加熱到380°C。

  • Cassette傳送站。

  • TEOS沉積製程。

  • OES、RGA或製程監(jiān)控的額外備用端口。



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